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田中 将志*; 鳴海 一成; 舟山 知夫; 菊地 正博; 渡辺 宏*; 松永 司*; 二階堂 修*; 山本 和夫*
Journal of Bacteriology, 187(11), p.3693 - 3697, 2005/06
被引用回数:47 パーセンタイル:62.27(Microbiology)放射線抵抗性細菌は紫外線耐性に関与するDNA修復遺伝子, , 遺伝子を持っている。これらの遺伝子破壊株を作成し、紫外線によるDNA損傷の修復にかかわる遺伝子の機能を解析した。その結果、これらの遺伝子は紫外線による突然変異誘発には関与していないこと,遺伝子は紫外線耐性にあまり関与していないこと,遺伝子はシクロブタン型ピリミジンダイマーと6-4光産物の紫外線誘発DNA損傷の除去にかかわっていること,遺伝子はおもに6-4光産物の除去のみに働くことなどがわかった。また、3種類の遺伝子を全て欠損させた破壊株でも、紫外線損傷DNAの除去活性が完全には失われていないことから、未知のDNA損傷除去機構の存在が示唆された。おそらく、この未知機構の一部は、DNA組換え修復機構によっていると考えられた。
高橋 真哉; 坂本 綾子; 佐藤 修正*; 加藤 友彦*; 田畑 哲之*; 田中 淳
Plant Physiology, 138(2), p.870 - 881, 2005/06
被引用回数:50 パーセンタイル:72.25(Plant Sciences)植物はDNA変異原の曝露により生じるDNA損傷の影響を回避するために、さまざまな機構を備えている。DNA損傷乗り越え複製(TLS)はその一つである。近年、誤りがちなDNA損傷乗り越え複製(error-prone TLS)にかかわる、DNAポリメラーゼのサブユニットのシロイヌナズナホモログ()の遺伝子破壊系統rev3が単離,解析され、植物でもerror-prone TLSの存在が示唆された。本研究では、error-prone TLSで機能していると予想される、シロイヌナズナ, 遺伝子の遺伝子破壊系統(, )の単離,解析を行い、植物のerror-prone TLSについてより詳細な解析を試みた。は、UV-B, DNA架橋剤に対して感受性を示し、株のDNA変異原に対する感受性と傾向が似ていた。一方では長期間のUV-B, DNA架橋剤に対して感受性を示した。この結果は, が程度の違いはあるがDNA変異原によって誘導された各種DNA損傷の回避に関与していることを強く示唆しており、植物にも他の生物と同様のerror-prone TLSが存在すると考えられた。
北山 滋; 鳴海 一成; 舟山 知夫; 渡辺 宏
Bioscience Biotechnology and Biochemistry, 67(3), p.613 - 616, 2003/03
被引用回数:3 パーセンタイル:13.19(Biochemistry & Molecular Biology)放射線抵抗性細菌の紫外線損傷DNAの修復に関わるUVエンドヌクレアーゼ0の酵素活性を解析するために、遺伝子のクローニングを行い、DNA塩基配列を決定した。紫外線感受性変異株では、この遺伝子に1塩基変異が起こっていた。UVエンドヌクレアーゼ遺伝子産物のアミノ酸配列は、遺伝子産物であるUVエンドヌクレアーゼとは異なり、真核生物由来のUVエンドヌクレアーゼ(UVDE)の配列や枯草菌タンパク質データベースに存在する配列と相同性があった。UVエンドヌクレアーゼは、UVエンドヌクレアーゼと異なり、DNA分子内架橋損傷を修復することはできず、紫外線損傷DNAの修復に特異的に働く酵素であると考えられた。
洲 亘; 川久保 幸雄*; 大平 茂; 大矢 恭久; 林 巧; 中村 博文; 岩井 保則; 西 正孝; Gentile, C. A.*; Skinner, C. H.*; et al.
Fusion Science and Technology, 41(3), p.690 - 694, 2002/05
核融合炉内で高濃度トリチウム汚染した機器の効率的な表面トリチウム除去方法を開発することを目的として、紫外線レーザー照射法の有効性を検証する実験を行った。試料として、TFTR D-Tプラズマ燃焼実験で実際にトリチウム汚染したプラズマ対向機器を用いた。紫外線レーザー(ArF,193nm,200mJ,25ns/pulse,1~20Hz)による照射試験を実施し、照射前後の表面トリチウム濃度及び照射中のトリチウム除去速度を測定した。照射開始約30秒後にトリチウム除去速度は最大となった。また、照射後の表面と濃度は照射前のそれと比較して顕著に減少した。今回の試験により紫外線レーザー照射が表面トリチウムの迅速な除去に有効であるとの結論を得た。
田中 淳; 坂本 綾子; 石垣 靖人*; 二階堂 修*; Sun, G.; 長谷 純宏; 鹿園 直哉; 田野 茂光; 渡辺 宏
Plant Physiology, 129(1), p.64 - 71, 2002/05
被引用回数:73 パーセンタイル:82.8(Plant Sciences)シロイヌナズナ種子にTIARAの炭素イオンビームを照射し、その後代において紫外線に耐性になる系統を初めて発見した。得られた4系統のうち、uvi1と名付けた系統では、紫外線高濃度環境下で野生株よりも約2倍の成長があったが、形態的には差異がなかった。紫外線損傷DNAの修復機構として明回復,暗修復の存在が植物で知られているが、これについてuvi1の能力を根の伸張テストやELISAで解析したところ、野生株に比べてuvi1は明回復,暗修復ともに向上していた。また、修復酵素であるCPDフォトリアーゼの遺伝子発現を調べたところ、uvi1では発現量が高まっていた。以上の結果から、uvi1では紫外線損傷DNAに対する修復能力が高まっているため、紫外線耐性が付与されたものと考えられる。
大矢 恭久; 田所 孝広*; 洲 亘; 林 巧; 大平 茂; 西 正孝
Journal of Nuclear Science and Technology, 38(11), p.967 - 970, 2001/11
被引用回数:6 パーセンタイル:44.09(Nuclear Science & Technology)炭素繊維強化複合材(CFC)とタングステン基板に共堆積層を模擬した膜をアセチレン(CHまたはCD)雰囲気下でのグロー放電により作成した。この膜にキセノンエキシマランプからの172nmまたはArFエキシマレーザーからの193nmの紫外線を照射し、質量分析器により放出ガスの分析を行った。照射前後の膜における水素同位体の深さ分布を弾性反跳粒子検出法と二次イオン質量分析法により測定した。紫外線ランプ照射によって水素,炭素や炭化水素の放出を確認したが、共堆積層は除去できなかった。一方、紫外線を照射することによって、1分以内にほとんどすべての共堆積層が除去された。これらより紫外線ランプでは一光子吸収によりC-H結合だけが切断されるが、紫外線レーザーでは多光子吸収によりC-H結合、C-C結合などすべてが切断され、除去されると考えられる。
洲 亘; 大平 茂; Gentile, C. A.*; 大矢 恭久; 中村 博文; 林 巧; 岩井 保則; 河村 繕範; 小西 哲之; 西 正孝; et al.
Journal of Nuclear Materials, 290-293, p.482 - 485, 2001/03
被引用回数:10 パーセンタイル:59.01(Materials Science, Multidisciplinary)米国プリンストンプラズマ物理研究所におけるトカマク核融合試験炉(TFTR)の除染・解体に向けた日米共同試験の一環としてTFTR真空容器内壁のカーボンタイルの紫外線によるトリチウム除染試験を行った。紫外線照射により水素と重水素(ガス状)及び二酸化炭素の2倍以上の放出、一酸化炭素の放出並びにオゾンの生成を測定した。また、タイル表面におけるトリチウム濃度は紫外線照射後20%減少した。400Kまでの加熱により表面トリチウム濃度は4~22Bq/cm増加したが、紫外線の再照射により加熱前の値に戻ることを確認した。これらのことから、紫外線照射はトリチウム表面汚染の効率的な除染方法の一つであることを示した。
大矢 恭久; 洲 亘; 大平 茂; 林 巧; 中村 博文; 酒井 拓彦*; 田所 孝広*; 小林 和容; 鈴木 卓美; 西 正孝
Journal of Nuclear Materials, 290-293, p.469 - 472, 2001/03
被引用回数:6 パーセンタイル:44.09(Materials Science, Multidisciplinary)D-T核融合炉を運転するとトリチウムがCFCタイルやほかの構造材中に滞留する。トリチウム水を生成しないでトリチウムを除染する方法を開発するために紫外線を用いた実験を行った。タングステン、CFC上に共堆積層を模擬した膜を作成し、これに紫外線を照射し放出するガスを質量分析計を用いて調べた。その結果、紫外線を照射することにより多量の水素、炭素、炭化水素が放出されることを確認した。またFT-IRを用いて試料を分析し、結晶性グラファイト構造とアモルファスカーボン構造が試料上に生成されていることを確認し、紫外線を照射することによりC-H結合が切断されていく様子が明らかとなった。これらのことから紫外線を用いたトリチウム除染が有効であることを示した。
洲 亘; 大矢 恭久
プラズマ・核融合学会誌, 76(10), p.1021 - 1028, 2000/10
プラズマ対向材料のトリチウム除染研究についてレビューした。JETのトリチウムインベントリーはRF加熱またはジュール加熱によるパスル及び換気排気によって有効に除去されたが、TFTRにおいては重水素またはヘリウム-酸素のグロー放電及び空気パージが有効なトリチウム除去技術であった。JETダイバータとTFTRリミッターのカーボンタイル表面に発生したフレークにはトリチウムが多量に含んでいた。現時点で酸素ベーキングは有効な除染手法と思われるが、その後の始末は大きな問題となる。一方、紫外線照射法及びレーザー脱離法などはいずれも研究開発段階であり、今後さらなる研究開発が必要である。
玉田 正男; 越川 博; 諏訪 武; 吉岡 照文*; 臼井 博明*; 佐藤 壽彌*
Polymer, 41(15), p.5661 - 5667, 2000/07
被引用回数:17 パーセンタイル:52.1(Polymer Science)N,N'-diphenyl-N,N'-bis(4-methylphenyl)-[I,I'-biphenyl]-4,4'-diamine(TPD)を有する新規アクリルモノマーを合成し、エレクトロルミネッセンス(EL)素子のホール輸送層に応用した。まず、モノマー薄膜を真空蒸着により作製し、その後、真空中で紫外線を照射して予備的に重合させてから、真空を保ったまま400Kまで加熱した。得られた厚さが60nmの薄膜の重合率は96%で薄膜表面は非常に平坦であった。この表面平坦性は420Kの加熱まで維持された。これらの真空蒸着及び重合のプロセスについては反射赤外スペクトルによりその場観察した。この手法で重合した薄膜を用いることにより、モノマー薄膜の場合と比較して約3倍の効率を有するEL素子を作製することができた。
大矢 恭久; 洲 亘; 大平 茂; 林 巧; 西 正孝
JAERI-Tech 2000-010, p.22 - 0, 2000/03
核融合炉においてプラズマ対向機器等の保守・点検作業前にトリチウム除染を行うことは、作業者の被ばく防護や放射能汚染低減の観点から非常に重要である。現在、加熱法による除染手法が考案されているが、加熱できない材料や二重管になっている配管から効率的にメタン系の付着物を取り除く除染方法の開発が重要である。本報告では、日米核融合研究協力協定(附属書4)の下で実施予定のトカマク核融合試験炉トリチウム除染技術開発に向けて行った予備試験の結果について報告する。実験ではポリクロロビニル、ポリエチレンシート及びアセチレンプラズマでコーティングしたグラファイトの試料に紫外線を照射し、紫外線によるトリチウム除染の可能性につて検討した。その結果、紫外線照射が有望なトリチウム除染方法のひとつになる見通しを得た。
田中 淳
放射線化学, (68), p.26 - 29, 1999/09
イオンビーム照射によって得られた紫外線耐性突然変異体についての総説である。4つの耐性突然変異系統(uvi1uvi4)の紫外線に対する耐性機構を調べると、uvi1では光回復能だけが高く、uvi3では暗回復能だけが高いのに対し、uvi2では両方の修復能が非常に高いことがわかった。一方、uvi4ではどちらの能力も野生株と比べて得に差がないという結果が得られ、4系統がそれぞれ耐性の原因が異なるという興味深い結果が得られている。特に両回復能が高いuvi2では、紫外線によって生じるDNA損傷のCPDと(6-4)型光産物が野生株に比べて速く修復する。さらにuvi2では、修復酵素であるCPDフオトリアーゼの発現が、可視光や紫外線照射下で非常に高いことも最近わかってきており、野生型の正常なUVI2は修復遺伝子の発現を負に制御する遺伝子ではないかと考えている。
山嵜 孝; Gullikson, E. M.*; 宮田 登*; 小池 雅人; 原田 善寿*; Mrowka, S.*; Kleineberg, U.*; Underwood, J. H.*; 柳原 美広*; 佐野 一雄*
Applied Optics, 38(19), p.4001 - 4003, 1999/07
被引用回数:22 パーセンタイル:69.86(Optics)本論文ではレーザープラズマ分光等に用いられる平面結像型斜入射球面回折格子分光器用のラミナ型ホログラフィック回折格子を非球面波露光法により設計、製作、評価した例について述べている。製作した中心溝本数1200本/mmの回折格子は25mmの両端で約200本/mm溝本数が変化している。これと従来の機械刻線型とを比較すべく、スペクトル分布測定を東北大科研の平面結像型分光器を用いて4.4nm輝線で行ったところ、1次光の半値幅は約0.4nmと機械刻線型の約3倍であった。ただし、回折格子の溝間隔等の微妙な違いが影響している可能性がある。また、絶対回折効率測定をLBNL/ALSの反射率計を用いて4.5nm-22nmの範囲で行い、1次光強度に対する2次光の相対強度が機械刻線型の120%-10%に対しラミナ型が13%-20%と、2次光の相対強度が総じて低くするという結果を得た。
喜多 治之*; 中田 雅夫*; 田村 富雄*
PNC TJ7176 98-003, 68 Pages, 1998/03
岩盤中に水平坑道や立坑を掘削すると、空洞周辺では掘削の影響により岩盤本来の力学的・水理学的特性が変化する領域(掘削影響領域)が形成される。掘削影響領域における岩盤の特性の変化は、掘削による岩盤の損傷や応力再配分よる新たなクラックの発生、既存クラックの開口、あるいは閉塞によるものと考えられる。掘削影響領域の範囲を把握することは、地下構造物の設計、建設を行う上で非常に重要である。掘削影響領域の範囲を把握するために、東濃鉱山北延NATM坑道の発破掘削区間に掘削されたBVP-2号孔のコアを用いて、微細なクラックや空隙の分布状況を蛍光法と画像処理法によって調べた。蛍光法とは、岩石中のクラックや空隙に蛍光剤を固定し、紫外線を照射することによりクラックや空隙を可視化する方法である。蛍光法によりコアサイズの観察から薄片観察までの一連の観察を行い、自然光では識別できないような微細なクラックを可視化した。さらに、画像処理によるクラックの個数や長さの計測を行い、坑壁からの深度との関係を調べた。その結果、クラックの分布と坑壁からの距離との間に明確な相関は認められず、観察されたクラックの多くは掘削の影響により形成されたものではなく、乾湿にともなう劣化によって形成されたクラックであると推察された。
山口 武憲
保健物理, 33(2), p.121 - 142, 1998/00
近年、国内で開発され、実用に供されている蛍光ガラス線量計について、個人線量測定の観点からその特徴を紹介した。現在、国内では個人線量計としてフィルムバッジが大勢を占めているが、線量測定範囲が広い、フェーディングがほとんど無い、読み取りによりデータを消失しない、自動測定である、などの長所を有しており、ガラス線量の価格がフィルムバッジの価格と同程度になれば、フィルムバッジに代わり普及すると考えられる。
小池 雅人
Vacuum Ultraviolet Spectroscopy II, 32, p.1 - 20, 1998/00
直入射真空紫外線分光器とこれを用いた放射光ビームラインについて概説する。内容は1.1球面回折格子分光器、1.1.1瀬谷-波岡型分光器、1.1.2Wadsworth型分光器、1.1.3Eagle型分光器、1.1.4高分解能アンジュレータビームライン、1.1.5偏向電磁石高分解能分光器/分光計ビームライン、1.2平面回折格子分光器である。出版元はAcademic Press社である。この本は約30年前に出版されたSamson著「Vacuum Ultraviolet Spectroscopy」の改訂版に当たるもので、光源、回折格子等の最近の進歩を取り入れ、斯界におけるハンドブック的な内容を旨としている。
山本 孝夫*
PNC TJ8625 96-001, 28 Pages, 1996/03
使用済核燃料の再処理後の高レベル放射性廃液中に含まれる有用核種の有効利用の観点から、太陽エネルギーの有効利用を目指して広く研究が進められている光触媒反応の可視光・紫外光の光量子を線などの放射線で置き換えた「放射線誘起触媒反応」を応用対象として取り上げ検討した。まず、光触媒反応について全体現象を構成している要素過程を検討し、可視光・紫外光の光量子を線光量子で置き換えたときに現れてくるであろう項目を放射線が持つ特異性をもとに検討した。さらに、それらをふまえた上で、問題点の摘出と今後の指針を提言した。
瀧上 真知子*; 伊藤 均
食品照射, 30(1-2), p.11 - 16, 1995/00
Escherichia coli BおよびB/r株のガンマ線および紫外線感受性についての報告は、従来から行われてきている。しかし両者の影響を同一エネルギーレベルで比較検討した報告は殆んどない。そこで、ガンマ線および紫外線をE.coliの各菌株に照射し、生存率ならびに突然変異率を求め照射の影響を比較検討した。その結果、同一エネルギーレベルでは、いずれの菌株においても、紫外線に対する感受性はガンマ線より高いことが認められた。また、菌株の感受性は、E.coli B株から分離されたB株で最も高く、次いで同様に分離されたB株、放射線抵抗性のB/r株の順であった。突然変異誘発については、ラクトースを質化する能力のないlac株と、アミノ酸要求性株について調べたが、突然変異発生率は、紫外線よりガンマ線照射の方が高い傾向が認められた。またガンマ線照射によるlacの発生率はB株で最も高く、次いでB、B/r株の順であった。
北谷 文人
PNC TN8440 94-036, 38 Pages, 1994/09
紫外光用のミラー材として一般に用いられる酸化物、フッ化物膜材について249nmのレーザーを用いて吸収および破壊強度の測定を行った。この結果から、紫外用の膜材としては、酸化物に代表される高屈折率膜が損傷およびロスのネックになっていることがわかった。よって、高性能な短波長光学素子を製作する際には、フッ化物、フッ化物の組み合わせによる製膜や酸化物以外の膜の低吸収、高破壊強度を持つ高屈折率膜の製作が必要である。また、多重照射の試験結果から製膜の後、低エネルギーレーザーの照射によって膜性能を向上できることが、わかった。
伊藤 均; 田村 智恵*
食品照射, 28(1-2), p.11 - 14, 1993/00
放射線と紫外線による殺菌効果は基本的には類似しており、両者ともDNAの障害が細胞死の原因になっていることが明らかにされている。しかし、大腸菌などの細菌類では紫外線照射後の光回復効果が知られており、現象的に放射線とは異なった感受性を示すことが考えられる。本研究では紫外線に特徴的な感受性を示すB/r,B,Bの3株を用いてガンマ線および紫外線感受性の比較を行った。その結果、紫外線ではB/r株が最も抵抗性が強く、B株が中間の感受性を示し、B株は抵抗性が弱かった。しかし、菌株間の差はそれほど大きくなかった。一方、ガンマ線ではB/r株の抵抗性が他の2株に比べ著しく強くなった。このことは放射線によって生じるDNAの損傷が紫外線より修復されやすいことを示しているためと思われる。